鍍膜技術(shù)是一種在物體表面鍍上一層薄膜的技術(shù)，具有諸多優(yōu)勢。

真空鍍膜技術(shù)在環(huán)保方面有顯著優(yōu)勢，沒有廢水污染。常見的真空鍍膜工藝有真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜和化學(xué)氣相沉積。

真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備簡單、操作容易，薄膜純度高、成膜速率快，但密度差、附著力較小，多用于建筑五金等的表面處理。

真空濺射鍍膜膜厚可控性和重復(fù)性好、附著力強(qiáng)、膜層純度高，但成膜速度低、基片溫度高、易受雜質(zhì)氣體影響、裝置復(fù)雜。常用的磁控濺射鍍膜技術(shù)適用于功能性薄膜等領(lǐng)域。

真空離子鍍膜附著力強(qiáng)、覆蓋性好、鍍層質(zhì)量高、成膜速度快、密度高，但基板須導(dǎo)電，廣泛應(yīng)用于機(jī)械零件等。

化學(xué)氣相沉積操作簡單、適用性廣泛、沉積速率高、涂層致密，但沉積溫度高、反應(yīng)氣體可能有問題、鍍層薄，主要用于改善材料性能和開發(fā)新型結(jié)構(gòu)材料。

真空鍍膜設(shè)備的蒸發(fā)鍍膜技術(shù)還包括電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)和感應(yīng)加熱蒸發(fā)。電阻蒸發(fā)結(jié)構(gòu)簡單、成本低，但材料易與坩堝反應(yīng)，不能蒸鍍高熔點(diǎn)介電薄膜且蒸發(fā)率低。電子束蒸發(fā)可蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料，薄膜純度高、熱效率高，但電子槍結(jié)構(gòu)復(fù)雜、化合物沉積時易分解。感應(yīng)加熱蒸發(fā)蒸發(fā)速率大、溫度穩(wěn)定、坩堝污染少，但裝置造價高、復(fù)雜。

磁控濺射鍍膜有諸多優(yōu)勢，如沉積速率大、功率效率高、基片溫度低、可制作復(fù)合靶、應(yīng)用范圍廣，但存在靶表面不均勻刻蝕的問題。

鍍膜技術(shù)在很多方面都有應(yīng)用。在裝飾方面，讓手表、服飾等色彩絢麗。在金屬工具方面，通過不同涂層讓工具呈現(xiàn)不同顏色，滿足養(yǎng)護(hù)需求。在玻璃方面，陽光控制膜和低輻射膜分別適用于不同緯度地區(qū)，優(yōu)化室內(nèi)溫度傳導(dǎo)。在太陽能方面，鍍膜平面能有效利用太陽能，減少熱輻射損耗。在光學(xué)儀器方面，各類光學(xué)儀器都依賴鍍膜技術(shù)提升性能。在飛機(jī)防護(hù)層方面，鍍鋁技術(shù)解決了飛機(jī)零件的“鎘脆”問題，提高了防腐蝕性能。

總之，鍍膜技術(shù)在各領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用，未來還將不斷發(fā)展和完善。

（圖/文/攝：太平洋汽車 整理于互聯(lián)網(wǎng)）